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北京创世威纳科技有限公司

Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.

发展历程

发展历程


  • 创世威纳高端制造设备,Discovery系列产品陆续推向市场。
  • 创世威纳在多项军事高科技技术领域作为主要设备制造商。
  • 2019
  • 截至2018年,创世威纳12款设备在11个国防科技、科技前沿项目高端制造中,作为独家设备供应商或主要供应商。
  • 截至2018年,获得国家4项发明专利,十余项实用新型专利,获批高新技术企业。
  • 客户数量超过300家。销售设备超过500台。出场设备超过450台。实现合同额超过3亿元。
  • 2018
  • 国内同行业第一个商用22cm大口径考夫曼离子源研发成功,配套离子束刻蚀机投入市场。
  • 国内同行业第一个商用16cm大口径射频离子源研发成功,配套反应离子束刻蚀机投入市场。
  • 国内首台4英寸原位对准静电晶圆键合机研发成功并投入市场。
  • 2015-2016
  • 公司在2010年-2011年连续两年实现合同翻番,掀起第一次销售风暴。
  • 2011年-2013年新的核心团队逐步建立,带领公司稳定前进。
  • 2010-2011
  • 2018.8.18 8:08 创世威纳告别清河龙岗路27号老厂区。入驻昌平区北京国际信息产业园高新二街2号4层新厂区。
  • 创世威纳成立十周年大型庆典活动,150余名各界专家、代表参会。公司制定适合于高端制造的人才战略,产品战略,市场战略。
  • 2018
  • 国内首台450mm*450mm大面积高均匀度纳米压印胶模板刻蚀机研发成功并投入市场。
  • 国内首台200mm*400mm大口径高均匀度闪耀光栅刻蚀机研发成功并成功投入市场。
  • 2016-2017
  • 第一台12英寸PECVD、ICP、RIE设备研发成功并投入市场,在国内处于领先地位。
  • 2011年自动化软件新系列逐步成熟,引领国内真空等离子体设备自动化控制市场。
  • 2012年全系列大尺寸异形工件镀膜设备研发成功并投入市场。
  • 2013年公司启动“总有一款适合你”全系列设备研发五年计划,
  • 至2017年顺利完成总计37个系列产品研发。包括:15个科研型设备;13个生产型设备;9个特种功能镀膜设备。
  • 2011-2013
  • 10月12日公司在北京海淀清河龙岗路27号成立
  • 11月27日签订第一台设备合同“西北工业大学------反应离子刻蚀机”
  • 2008
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