欢迎光临北京创世威纳科技有限公司官方网站!

北京创世威纳科技有限公司

Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.

产品中心

联系我们

座机:010-62907051

电话:139-1055-5133

销售部电话:
010-62907051-829/830



地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业园高新二街2号4层

Discovery系列高端设备

DISC-IBE-150C型: 负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,腔体前后开门

名称:DISC-IBE-150C型: 负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,腔体前后开门

详细信息

应用方向:科研与教学

产品优势:负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,刻蚀腔体前后开门

产品配置:

★离子源种类:考夫曼离子源

★离子源口径:Φ150mm

★中和方式:灯丝、冷态等离子体桥

★样片数量及尺寸:1片Φ200mm样品

★刻蚀材料:包括并不限于硅、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、合金、陶瓷等。

★刻蚀腔体:高真空系统

★刻蚀不均匀性:±3%-±6%

★刻蚀速率:10-500nm/min(视具体材料与工艺)

★工作台:可旋转,可自传,可调距离,包含水冷

★工艺气路:1-2路

★束流检测:法拉第筒在线检测

★终点检测控制:可选配质谱仪

★操作模式:全自动+半自动控制

设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。

联系我们

北京创世威纳科技有限公司

地址:北京市昌平区回龙观

联系电话:13910555133

座机:010-62907051-829/830

传真:010-62999722

官方微信公众平台

官方微信公众平台

版权所有 @ 2019 北京创世威纳科技有限公司 备案号: 京ICP备09010696号-1