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MSP-5100C型: 矩形磁控靶侧面镀膜,立式设备

名称:MSP-5100C型: 矩形磁控靶侧面镀膜,立式设备

详细信息




应用方向:片状样品批量生产

产品优势:矩形磁控靶侧面镀膜,立式设备

产品配置:

样片数量及尺寸:14000片/炉,L10mm*W5mm*D5mm(依据靶尺寸和样品尺寸定制)

溅射材料:金属;非金属;化合物等薄膜材料。

溅射腔体:高真空系统。

溅射不均匀性:≤±5%-±8%

磁控靶数量:2-4支矩形磁控靶 

磁控靶安装形式:立式安装

加热:常规加热 

电源配置:射频;直流

清洗功能:可选配离子源清洗、射频清洗、反溅清洗模式

快速反应溅射功能:可选配Speedflo

膜厚监控功能:可选配晶控膜厚在线监测与终点控制

操作模式:全自动+半自动控制

类似产品:棒状样品批量镀膜(MSP-5100B)

设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。

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