欢迎光临北京创世威纳科技有限公司官方网站!

北京创世威纳科技有限公司

Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.

公司动态

PVD技术常用的方法

来源: 时间:2019-04-29 17:15:02 次数:

PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀),以下介绍几种常用的方法。

PVD技术常用的方法

PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀),以下介绍几种常用的方法。

电子束蒸发

电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。

特征:真空环境;蒸发源材料需加热熔化;基底材料也在较高温度中;用磁场控制蒸发的气体,从而控制生成镀膜的厚度。

溅射沉积

溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多,有直流溅射、RF溅射和反应溅射等,而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。
特征:在真空室内充入放电所需要的惰性气体(如氩气),在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量正离子。带电离子被强电场加速,便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料(称为靶)。在离子轰击下,蒸发源材料的原子将离开固体表面,以高速度溅射到基片上并沉积成薄膜。

RF(射频)溅射

RF溅射使用的频率约为13.56MHz,它不需要热阴极,能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不仅可以沉积金属膜,而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜,因而使用范围较广。

电弧离子镀 

阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积,该技术材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。

过滤阴极弧

过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统,可将弧源产生的等离子体中的宏观大颗粒过滤掉, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。

离子束

离子束加工是在真空条件下,先由电子枪产生电子束,再引入已抽成真空且充满惰性气体之电离室中,使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速、集束等步骤,获得具有一定速度的离子投射到材料表面,产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷,其质量比电子大数千、数万倍,所以离子束比电子束具有更大的撞击动能,是靠微观的机械撞击能量来加工的。

上一篇:ITO薄膜

下一篇:常用真空术语

返回

联系我们

北京创世威纳科技有限公司

地址:北京市昌平区回龙观

联系电话:13910555133

座机:010-62907051-829/830

传真:010-62999722

官方微信公众平台

官方微信公众平台

版权所有 @ 2019 北京创世威纳科技有限公司 备案号: 京ICP备09010696号-1