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行业资讯

  • 5G时代来临,不锈钢中框加PVD方案将成新的趋势
    5G时代来临,不锈钢中框加PVD方案将成新的趋势

    随着5G时代的临近,行业内公司纷纷布局产业链相关节点。行业相关人表示,看好金属中框的产业节点优势,行业从“金属外壳+金属中框”向未来“金属中框+双面玻璃”的产业发展过程中,将需要7系铝、不锈钢甚至钛合金等一类加工技术壁垒更高、价值更高的金属中框,以保持机身的强度和对大屏的支撑,这将显著提高金属中框产业...

    04-29

  • HIPIMS技术简介
    HIPIMS技术简介

    磁控溅射技术广泛应用于薄膜制备领域,装饰镀膜应用领域和工具镀膜应用都比较常见,但磁控溅射处理技术有很多的局限性,例如磁控溅射靶功率密度受靶热负荷的限制,即当溅射电流较大时,过多的正离子对靶进行轰击可能使溅射靶过热而烧损,溅射的能量有限金属离化率不高等问题。近年来国内外发展起来了一种高功率脉冲磁控溅...

    04-29

  • iPhone不锈钢中框+PVD工艺
    iPhone不锈钢中框+PVD工艺

    物理气相沉积 (PVD) 着色工艺。金色和深空灰色外观的不锈钢边框采用先进的物理气相沉积着色工艺,使颜色和反射率与玻璃机身相得益彰。

    04-29

  • PVD在显示屏行业现状
    PVD在显示屏行业现状

    PVD(Physical Vapor Deposition)技术,其实是制备薄膜材料的主要技术之一。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展,PVD 镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。

    04-29

  • 类金刚石(DLC)简介
    类金刚石(DLC)简介

    类金刚石(英文:Diamond-likeCarbon 缩写DLC)是一种非晶碳,这种材料表现出很多与金刚石相类似的性质,DLC常常作为涂层材料使用。

    04-29

  • 平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射
    平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射

    平衡磁控溅射即传统的磁控溅射,是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈,在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体,通常为Ar,在高压作用下Ar 原了电离成为Ar+离子和电子,产生辉光放电,Ar+ 离子经电场加速轰击靶材,溅射出靶材原子、离子和二次电子等。...

    04-29

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