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北京创世威纳科技有限公司

Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.

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    公司产品定位于高新技术发展的基础产业,并广泛用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、新能源等领域。
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选择创世威纳的4大优势

  • 01 多年专注 经验丰富

    专业从事微细加工设备、半导体工艺设备研发与销售的高新技术企业。

  • 02 紧跟世界 先进技术

    采用国际上先进的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售。

  • 03 领域广泛 设施齐全

    产品定位于高新技术发展的基础产业,可提供全套设备和单一设备。

  • 04 稳定性强 安全可靠

    良好的售前服务平台、完善的售后服务体系、广泛的技术支持能力。

关于我们

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。

公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利及十余项实用新型专利,北京创世威纳紧跟世界技术步伐,不断提供技术先进、性能优良的镀膜设备、刻蚀设备、真空应用定制设备及各类真空等离子体设备,应用于各研究院所、大专院校、企业单位。

企业概况发展历程 企业资质 企业文化
新闻资讯
  • ITO薄膜

    2019-04-29

    ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。

  • PVD技术常用的方法

    2019-04-29

    PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀),以下介绍几种常用的方法。

  • 常用真空术语

    2019-04-29

    常用真空术语:1.标准环境条件 standard ambient condition: 温度为20℃,相对湿度为65%,大气压力为101325Pa=1013.25mbar=760Torr。

  • 溅射沉积技术

    2019-04-29

    溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积,薄膜与基体结合力好,溅射密度高、针孔少,膜层可控性和重复性好等优点,而且任何物质都可以进行溅射,因而近年来发展迅速,应用广泛。

  • 气体的放电

    2019-04-29

    在PVD实际中,你是否遇到过开靶点不起来,需要充入更多的工作气体或多关闭高阀才能正常点靶,是否遇到在辉光清洗时,产品“打火”,烧蚀坏产品的情况。其实这些都与气体的放电有关,下面就聊聊与PVD相关的几种放电类型。

  • 为什么PVD涂层可以沉积不同的颜色

    2019-04-29

    我们看到一个物体,首先感到是它的颜色。物质的颜色是由人眼视觉看得到的。如果在没有光线的密闭的暗室中,或在漆黑的夜里,物体的颜色是看不见的。只有在光照下,物质的颜色才能为肉眼所见,所以我们说颜色是光和眼睛相互作用而产生的。事实上,颜色是大脑对投射在视网膜上不同性质光线进行辨认的结果。

  • 5G时代来临,不锈钢中框加PVD方案将成新的趋势

    2019-04-29

    随着5G时代的临近,行业内公司纷纷布局产业链相关节点。行业相关人表示,看好金属中框的产业节点优势,行业从“金属外壳+金属中框”向未来“金属中框+双面玻璃”的产业发展过程中,将需要7系铝、不锈钢甚至钛合金等一类加工技术壁垒更高、价值更高的金属中框,以保持机身的强度和对大屏的支撑,这将显著提高金属中框产业价…

  • HIPIMS技术简介

    2019-04-29

    磁控溅射技术广泛应用于薄膜制备领域,装饰镀膜应用领域和工具镀膜应用都比较常见,但磁控溅射处理技术有很多的局限性,例如磁控溅射靶功率密度受靶热负荷的限制,即当溅射电流较大时,过多的正离子对靶进行轰击可能使溅射靶过热而烧损,溅射的能量有限金属离化率不高等问题。近年来国内外发展起来了一种高功率脉冲磁控溅射…

  • iPhone不锈钢中框+PVD工艺

    2019-04-29

    物理气相沉积 (PVD) 着色工艺。金色和深空灰色外观的不锈钢边框采用先进的物理气相沉积着色工艺,使颜色和反射率与玻璃机身相得益彰。

  • PVD在显示屏行业现状

    2019-04-29

    PVD(Physical Vapor Deposition)技术,其实是制备薄膜材料的主要技术之一。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展,PVD 镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。

  • 类金刚石(DLC)简介

    2019-04-29

    类金刚石(英文:Diamond-likeCarbon 缩写DLC)是一种非晶碳,这种材料表现出很多与金刚石相类似的性质,DLC常常作为涂层材料使用。

  • 平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射

    2019-04-29

    平衡磁控溅射即传统的磁控溅射,是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈,在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体,通常为Ar,在高压作用下Ar 原了电离成为Ar+离子和电子,产生辉光放电,Ar+ 离子经电场加速轰击靶材,溅射出靶材原子、离子和二次电子等。

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